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MetronFilm 反射膜厚测量仪
MetronFilm 反射膜厚测量仪
1nm~260μm 全覆盖 / <0.02nm 重复精度 / 强大智能算法
      
MetronFilm 反射膜厚测量仪
是基于光学非接触技术,用于精密快速检测薄膜厚度的专业设备。采用自研高分辨光谱仪,搭配强大智能算法,可以进行透明或半透明的薄膜厚度及光学常数的无损测量。
MetronFilm反射膜厚测量仪
      
典型应用领域:
      
 半导体制程 
  3D NAND 是通过垂直堆叠多个交替层来突破 2D 结构扩展极限的先进闪存技术,堆叠层数可多达 200 层以上,需要光学无损测量来量化并验证逐层薄膜的均匀性和厚度。
      
 光学涂层 
  “AR(增透)+HC(硬质)”复合双层结构膜层是眼镜片、相机镜头常用的核心功能涂层,其膜厚和 n&k 值是关键变量,因此更需要无损、准确的检测来提升工艺和良率。
      
 薄膜光电材料 
   前表面减反射层(如 SiNₓ) 和背表面钝化层(如Al₂O₃/SiNₓ)是光伏 PERC电池中的核心结构,其膜厚和 n&k 的精确检测和控制是决定 PERC电池效率及量产稳定性的关键。
      
      MetronFilm 反射膜厚测量仪 具有以下显著特点:
 1 
 1nm~260μm 超宽量程 
拥有超广域测量范围,量程覆盖 1nm~260μm,从超薄膜至厚膜均可准确测量;
 2 
 <0.02nm 重复精度 
搭配自研高分辨光谱仪,重复精度低至 0.02nm,保证膜厚测量准确性,满足半导体等光电领域的严苛需求;
 3 
 溯源 NIST,测量准确有保证 
准确度 1nm @ 500nm 以下,或 0.2 % @ 500nm 以上*;
 4 
 适用多种先进工艺 
能实现复杂膜系的测量,二元复合多层膜实测可多达 232 层,可应用于如 3D NAND、AR+HC 复合光学涂层、 PERC 薄膜等等;
 5 
 光学常数拟合 
支持单/多膜层的逐层 n值(折射率)以及 k值(消光系数)等光学常数快速检测,单层膜的膜厚及光学常数拟合可在 1s 内完成。
      
      
      
了解更多内容:
 膜厚检测
 
  如何测量光栅?
 
 如何测量有机发光材料?
 
      
技术参数
技术参数
型号
描述
MetronFilm
厚度测量范围 15nm ~ 260μm,VIS
MetronFilm-EX
厚度测量范围 1nm ~ 260μm,UV+VIS
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MetronFilm
项目
值
波长范围:
380~1100nm
光源:
内置卤素灯
厚度测量范围*:
15nm ~ 260μm
测量 n&k 最小厚度*:
50nm
准确度* :
2nm @ ≤1000nm,或 0.2% @ ≥1000nm
精度¹:
0.02nm
稳定性²:
0.05nm
光斑大小:
1.5mm
样品尺寸:
直径从 1mm 到 300mm 或更大
测量速度* :
单层少于 1s
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MetronFilm-EX
项目
值
波长范围:
190~1100nm
光源:
外置氘灯+卤素灯
厚度测量范围*:
1nm ~ 260μm
测量 n&k 最小厚度*:
50nm
准确度*:
1nm @ ≤500nm,或 0.2% @ ≥500nm
精度¹:
0.02nm
稳定性²:
0.05nm
光斑大小:
1.5mm
样品尺寸:
直径从 1mm 到 300mm 或更大
测量速度* :
单层少于 1s
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项目
值
备注:
* 取决于材料
¹ 在连续 10 天内,对 800nm 厚的硅基二氧化硅(SiO₂-on-Si)薄膜每日进行 100 次测量,此值为这些每日平均值的标准偏差值的平均值(1σ)
² 在连续 10 天内,对 800nm 厚的硅基二氧化硅(SiO₂-on-Si)薄膜每日进行 100 次测量,此值为这些每日平均值的 2 倍标准差(2σ)
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光纤光谱仪 / 微型光谱仪
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